Zsfassung in engl. Sprache ; Oldenburg, Univ., Diss., 2010
Hochschulschrift
In dieser Dissertation wurde das Zersetzungsverhalten der neuartigen grundsätzlich kohlenstofffreien thermolabilen Tetranitratoaurat-Precursoren NH4[Au(NO3)4], NO[Au(NO3)4] und NO2[Au(NO3)4] auf Siliziumoberflächen für den Einsatz in additiven Abscheideverfahren zur Erzeugung kohlenstofffreier nanoskaliger Goldstukturen untersucht. Ein grundlegender Teil dieser Arbeit bestand in der Klärung der Machbarkeit, Eignung und Korrelation der Methoden TG/DTA, DSC, TDS, XPS für die Untersuchung der luftempfindlichen Materialien sowie der Klärung der Eignung der betrachteten kohlenstofffreien Tetranitratoaurat-Precursoren für den Einsatz in elektronenstrahlschreibenden Verfahren. Es wurde v.a. das thermische, photochemische und elektronenstrahlinduzierte Zersetzungsverhalten dieser neuartigen Precursorverbindungen untersucht. Erfolgreiche additive Abscheidungen im REM gelangen mit dem NO2[Au(NO3)4]-Precursor. Dieser zersetzt sich – nach DSC-/TDS-Analysen – thermisch im Temperaturbereich ab etwa 400 K bis 470 K unter Freisetzung von Stickoxiden zu – nach XPS-Analysen – elementarem Gold. <dt.>
In this work the decomposition behaviour of novel, generally carbon-free and thermolabile tetranitratoaurate precursors NH4[Au(NO3)4], NO[Au(NO3)4] and NO2[Au(NO3)4] supported on silicon surfaces have been studied for application in additive deposition techniques and formation of carbon-free nanoscale gold structures. One part of this work dealed with the investigation of feasibility, applicability and correlation of different characterisation methods like TG/DTA, DSC, TDS, XPS for the analysis of the above mentioned air-sensitive materials as well as the applicability of that carbon-free tetranitratoaurate precursors for electron beam writing techniques. The thermal, photochemical and electron-beam induced decomposition behaviour have been investigated. Successful additive depositions in REM could be realised for the NO2[Au(NO3)4]-precursor. Latter decomposes by thermal treatment in the temperature regime of about 400 K - 470 K to elementary gold under release of nitrogen oxides, which was followed by DSC-/TD- and XPS-Analysis. <engl.>
